アンヘル・ナネス・ポンボ

レジデンス・プログラム

二国間交流事業プログラム(招聘)


アンヘル・ナネス・ポンボ

参加プログラム 二国間交流事業プログラム(招聘)
活動拠点スペイン
滞在期間
2009年9月 - 2009年11月
滞在目的

ここ数年様々な状況下で、私の作品は日本人アーティストに親しまれ、彼らの作品に関わってきた。このことは、日本で制作されるそれらの作品を見ることへの好奇心と興味を持つきっかけとなった。 よって、レジデンス滞在中は日本人アーティストと交流し対話を深めることで、彼らの制作活動に間近で触れられることを期待したい。

滞在中の活動

OPEN STUDIO 2009 2009年度 二国間交流事業(バルセロナ)招聘 自身の制作を発展させる。

クリエーター情報

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